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Wintersemester 2004/2005
Ort:
Aula im Schloß, Erlangen, Schloßplatz 4
Zeit: 20.15 Uhr
Strukturen
und Materialien für die nanoskalige Elektronik
Max-Planck-Institut
für Mikrostrukturphysik Halle/Saale
Abteilung:
Experimentalphysik II, Prof. U. Gösele
Rathenauplatz
14
06114
Halle
Der
Vortrag wird eine mögliche Roadmap von der bestehenden planaren
Siliziumtechnologie zu den physikalischen Grenzen einer nanoskaligen Elektronik
vorstellen. Dabei werden evolutionäre, innovative und revolutionäre Konzepte
für diese Technologie diskutiert.
Unter
Evolution versteht man das kontinuierliche Skalieren der Bauelementdimensionen,
d.h. der des einzelnen Transistors innerhalb der letzten 30 Jahre, das man für
das exponentielle Wachstum der Halbleiterindustrie, dominiert von der
Siliziumtechnologie verantwortlich macht. Denn mit diesem Skalieren liessen
sich immer höhere Integrationsdichten und bessere Performance realisieren. Mit Bauelementdimensionen
im sub-30-Nanometer Bereich erreicht man die Grenze zur weiteren
Transistorskalierung in der planaren Siliziumtechnologie, insbesondere da sich
die Energiedichte so drastisch erhöht, dass eine adäquate Wärmeabfuhr
kostengünstig kaum länger möglich ist.
Dies
hat zur Integration neuer Materialien und Bauelementarchitekturen geführt, d.h.
zur Innovation in der Siliziumtechnologie. Zu den neuen Materialien zählt das
‚Silicon-on-Insulator’ (SOI), das verspannte Silizium,
Silizium-Germanium und neue Isolatoren neben dem Siliziumdioxid. Neue
nanoskalige Bauelementarchitekturen integrieren vertikale statt planare
Transistoren um so durch ein Bauen in die dritte Dimension die
Integrationsdichte zu erhöhen ohne die Bauelementdimensionen ans Limit zu
führen.
Vertikale Transistoren können lithographisch im Silizium,
d.h. ‚top-down’ hergestellt werden oder aber, und das ist
Gegenstand aktueller Forschung, ’bottom-up’ durch das Wachstum von
Siliziumnanodrähten auf geordneten Nanotemplaten.
Am Beispiel der
Siliziumnanodrähte wird aufgezeigt welche Innovationsprozesse nötig sind
um sie in die bestehende Siliziumtechnologie zu integrieren.
Zuletzt wird eine Prognose zur Notwendigkeit revolutionärer
Konzepte, wie z.B. Quantencomputing in der Nanoelektronik abgegeben.
Stand: 29. November 2004